उत्पाद सुविधाएँ
उत्कृष्ट ऑक्सीकरण और न्यूनीकरण प्रतिरोध
उच्च क्रोमियम सामग्री (14.0-18.0%) ऑक्सीकरण मीडिया (जैसे नाइट्रिक एसिड, Fe³⁺/Cu²⁺ युक्त एसिड) में एक घने निष्क्रियता फिल्म के गठन को सुनिश्चित करती है। उच्च मोलिब्डेनम सामग्री (14.0-17.0%) कम करने वाले मीडिया (जैसे हाइड्रोक्लोरिक एसिड, पतला सल्फ्यूरिक एसिड) में समान संक्षारण के लिए उत्कृष्ट प्रतिरोध प्रदान करती है। यह 'क्रोमियम + मोलिब्डेनम' डुअल-कोर डिज़ाइन इसे दृढ़ता से ऑक्सीकरण से लेकर दृढ़ता से कम करने तक की जटिल सेवा स्थितियों को संभालने में सक्षम बनाता है।
पिटिंग, क्रेविस संक्षारण, और तनाव संक्षारण क्रैकिंग के लिए असाधारण प्रतिरोध
उच्च क्रोमियम और मोलिब्डेनम सामग्री का सहक्रियात्मक प्रभाव क्लोराइड युक्त वातावरण में गड्ढे और दरार संक्षारण (PREN 50 से अधिक या उसके बराबर) के लिए अत्यधिक उच्च प्रतिरोध प्रदान करता है, क्लोराइड प्रेरित तनाव संक्षारण क्रैकिंग के लिए उत्कृष्ट प्रतिरोध के साथ, अधिकांश ऑस्टेनिटिक स्टेनलेस स्टील्स से बेहतर प्रदर्शन करता है।
सुपीरियर थर्मल स्थिरता और संवेदीकरण प्रतिरोध
अल्ट्रा {{0} कम कार्बन (0.015% से कम या उसके बराबर), बहुत कम सिलिकॉन (0.08% से कम या उसके बराबर), सख्ती से सीमित लौह सामग्री (3.0% से कम या उसके बराबर), टाइटेनियम स्थिरीकरण (टीआई 0.70% से कम या उसके बराबर) के साथ मिलकर, 650 से 650 डिग्री के उच्च तापमान रेंज में उत्कृष्ट माइक्रोस्ट्रक्चरल स्थिरता सुनिश्चित करता है। इस तापमान सीमा के लंबे समय तक संपर्क में रहने पर कोई भंगुर चरण या μ{12}} चरण अवक्षेप नहीं बनता है। यहां तक कि वेल्डिंग के बाद गर्मी से प्रभावित क्षेत्र में भी, इसका संक्षारण प्रतिरोध लगभग अप्रभावित रहता है, जिससे वेल्डिंग के बाद गर्मी उपचार की आवश्यकता समाप्त हो जाती है। यह सी-4 को प्रारंभिक सी-276 मिश्रधातु से अलग करने वाली सबसे विशिष्ट विशेषता है।
अच्छी फॉर्मेबिलिटी और वेल्डेबिलिटी
इसे पारंपरिक प्रक्रियाओं का उपयोग करके ठंडा या गर्म बनाया जा सकता है, जिसमें अनुशंसित गर्म कार्य तापमान सीमा 950{8}}1200 डिग्री है। इसमें अच्छी वेल्डेबिलिटी (GTAW/TIG, GMAW/MIG, SMAW, आदि) है। ERNiCrMo-7 फिलर वायर (AWS A5.14 मानक) का उपयोग करने की अनुशंसा की जाती है, जिसमें इंटरपास तापमान 150 डिग्री से कम या उसके बराबर नियंत्रित होता है। वेल्डिंग के बाद पोस्ट-वेल्ड समाधान उपचार की आवश्यकता नहीं होती है, और इसे सीधे संक्षारक सेवा स्थितियों में उपयोग किया जा सकता है।
तकनीकी निर्देश
रासायनिक संरचना
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तत्व |
मानक आवश्यकताएँ |
टिप्पणियाँ |
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नी |
शेष मात्रा (65.0% से अधिक या उसके बराबर) |
मैट्रिक्स तत्व जो सतह केंद्रित क्यूबिक ऑस्टेनिटिक संरचना की स्थिरता सुनिश्चित करते हैं और तनाव संक्षारण क्रैकिंग के लिए उत्कृष्ट प्रतिरोध प्रदान करते हैं |
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करोड़ |
14.0 - 18.0% |
एंटीऑक्सीडेंट और संक्षारण प्रतिरोधी गुण प्रदान करता है, जो सघन निष्क्रियता फिल्म बनाने में महत्वपूर्ण तत्व हैं |
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फ़े |
3.0% से कम या उसके बराबर |
हानिकारक इंटरमेटेलिक चरणों के गठन को रोकने के लिए निम्न स्तर पर सख्ती से नियंत्रण करें |
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एमओ |
14.0 - 17.0% |
एसिड, पिटिंग संक्षारण और दरार संक्षारण को कम करके संक्षारण प्रतिरोध में उल्लेखनीय सुधार करें |
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सह |
2.0% से कम या उसके बराबर |
अशुद्धियों के प्रभाव को कम करने के लिए सख्त नियंत्रण |
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ती |
0.70% से कम या उसके बराबर |
ऐसे तत्वों को स्थिर करना जो अधिमानतः कार्बन के साथ मिलकर TiC बनाते हैं, अंतरग्रैनुलर संक्षारण संवेदनशीलता को समाप्त करते हैं |
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C |
0.015% से कम या उसके बराबर |
अल्ट्रा-निम्न कार्बन सामग्री, अंतरग्रंथि क्षरण को रोकती है और कार्बाइड अवक्षेपण के जोखिम को समाप्त करती है |
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एम.एन. |
1.0% से कम या उसके बराबर |
डीऑक्सीडाइज़र, गर्म काम करने वाले गुणों में सुधार करता है |
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सी |
0.08% से कम या उसके बराबर |
अंतर-दानेदार संक्षारण प्रवृत्ति को रोकने के लिए बेहद कम सिलिकॉन सामग्री |
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P |
0.030% से कम या उसके बराबर |
अशुद्धि तत्व |
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S |
0.030% से कम या उसके बराबर |
गर्म भंगुरता को रोकें |
भौतिक गुण
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संपत्ति |
मूल्य पहुंच |
परीक्षण की स्थितियाँ |
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घनत्व |
8.64 ग्राम/सेमी³ |
कमरे का तापमान (20 डिग्री) |
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गलनांक |
1335 - 1380 डिग्री |
- |
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थर्मल विस्तार का गुणांक (20-100 डिग्री) |
11.2 × 10⁻⁶ /K |
- |
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थर्मल विस्तार का गुणांक (20-300 डिग्री) |
11.8 × 10⁻⁶ /K |
- |
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लोचदार मापांक (यंग मापांक) |
210 जीपीए |
कमरे का तापमान |
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तापीय चालकता (20 डिग्री) |
10.1 W/(m·K) |
- |
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प्रतिरोधकता |
1.23 - 1.27 µΩ·m |
कमरे का तापमान |
यांत्रिक गुण (घोषित स्थिति, विशिष्ट मान)
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संपत्ति |
विशिष्ट मूल्य |
विनिर्देश |
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तन्यता ताकत |
690 एमपीए से अधिक या उसके बराबर |
एएसटीएम बी574/बी575 |
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नम्य होने की क्षमता |
310 एमपीए से अधिक या उसके बराबर |
एएसटीएम बी574/बी575 |
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बढ़ाव |
40% से अधिक या उसके बराबर |
एएसटीएम बी574/बी575 |
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कठोरता |
100 एचआरबी से कम या उसके बराबर (या 220 एचबी से कम या उसके बराबर) |
- |
उच्च-तापमान प्रदर्शन
यह मिश्र धातु 600 डिग्री से नीचे लंबे समय तक उपयोग किए जाने पर संरचनात्मक और यांत्रिक स्थिरता बनाए रखती है। यह अल्पावधि में 800 डिग्री तक उच्च तापमान पर ऑक्सीकरण वातावरण का सामना कर सकता है। हालाँकि, लंबे समय तक उपयोग के लिए, σ{7}} चरण और μ - चरण की वर्षा के कारण होने वाली क्षति से बचने के लिए इसे 400 डिग्री से अधिक नहीं करने की सिफारिश की जाती है।
थर्मल स्थिरता: C-4, Ni{2}}Cr-Mo मिश्रधातुओं के बीच सबसे उत्कृष्ट सूक्ष्म संरचनात्मक स्थिरता वाली सामग्रियों में से एक है। जब इसे लंबे समय तक मध्यम तापमान से 650 से 1040 डिग्री के उच्च तापमान रेंज में उजागर किया जाता है, तो यह हानिकारक इंटरमेटेलिक चरण अवक्षेपण प्रदर्शित नहीं करता है। इसके वेल्ड ताप-प्रभावित क्षेत्र में अंतरग्रैनुलर जंग के लिए अच्छा प्रतिरोध है, जो वेल्डेड स्थिति में सीधे उपयोग की अनुमति देता है। यह विशेषता इसे पहले के C-276 मिश्र धातु से महत्वपूर्ण रूप से अलग करती है: C-276 को समान तापमान सीमा में केवल 3 मिनट के संवेदीकरण समय की आवश्यकता होती है, जबकि C-4 के लिए 2 घंटे से अधिक की आवश्यकता होती है।
पिटिंग प्रतिरोध समतुल्य (PREN): PREN=%Cr + 3.3×%Mo + 16×%N ≈ 50-76 (नाइट्रोजन सामग्री के आधार पर), जो 316L (≈25) और 904L (≈35) से बहुत अधिक है। यह क्लोराइड युक्त वातावरण में गड्ढों और दरारों के क्षरण के प्रति उत्कृष्ट प्रतिरोध प्रदर्शित करता है।
क्रिटिकल पिटिंग तापमान (सीपीटी): 6% FeCl₃ समाधान (एएसटीएम जी48 मानक) में, सीपीटी 65 डिग्री से अधिक या उसके बराबर, अधिकांश ऑस्टेनिटिक स्टेनलेस स्टील्स से बेहतर प्रदर्शन करता है।
लागू मीडिया:
क्लोराइड-जिसमें समुद्री जल, खारा पानी, नमकीन पानी शामिल है
सल्फ्यूरिक एसिड, फॉस्फोरिक एसिड, नाइट्रिक एसिड, फॉर्मिक एसिड, एसिटिक एसिड और कार्बनिक एसिड
गीला ग्रिप गैस डिसल्फराइजेशन (एफजीडी) घोल
मिश्रित अम्लों को ऑक्सीकृत करना-घटाना
कागज विरंजन समाधान (क्लोरीन, क्लोरीन डाइऑक्साइड)
उच्च-तापमान और उच्च-दबाव वाला पानी (परमाणु ऊर्जा माध्यमिक सर्किट)
H₂S/CO₂ युक्त अम्लीय गैस वातावरण
नोट: मिश्र धातु 70% से कम या उसके बराबर (50 डिग्री से नीचे) एकाग्रता वाले नाइट्रिक एसिड और Fe³⁺ और Cu²⁺ जैसे ऑक्सीकरण आयनों वाले अम्लीय समाधानों के लिए अच्छा प्रतिरोध दिखाती है। हालाँकि, इसे अत्यधिक ऑक्सीकरण वाले वातावरण (उदाहरण के लिए, गर्म केंद्रित नाइट्रिक एसिड, गीली क्लोरीन गैस) में लंबे समय तक उपयोग के लिए अनुशंसित नहीं किया जाता है।
हास्टेलॉय सी-4 को विशेष रूप से मध्यम से निम्न तापमान पर कठोर संक्षारक वातावरण के लिए डिज़ाइन किया गया है और इसे निम्नलिखित क्षेत्रों में उपयोग के लिए अनुशंसित किया गया है:
अनुप्रयोग फ़ील्ड
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रासायनिक और पेट्रोकेमिकल उद्योग: रिएक्टर, आसवन कॉलम, हीट एक्सचेंजर्स, पाइपिंग, और सल्फ्यूरिक एसिड, हाइड्रोक्लोरिक एसिड, फॉस्फोरिक एसिड, नाइट्रिक एसिड और हैलाइड युक्त मीडिया को संभालने वाले वाल्व। एसिटिक एसिड, एसिटिक एनहाइड्राइड और ऐक्रेलिक एसिड जैसे कार्बनिक एसिड उत्पादन सुविधाओं के लिए विशेष रूप से उपयुक्त।
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फ़्लू गैस डीसल्फराइजेशन (एफजीडी): अवशोषक स्प्रे परतें, रीहीटर्स, गीले गैस पंखे और आंदोलनकारी, डीसल्फराइजेशन घोल में क्लोराइड आयनों और सल्फ्यूरस/सल्फ्यूरिक एसिड की उच्च सांद्रता से गंभीर क्षरण का विरोध करते हैं।
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एसिटिक एसिड और कीटनाशक उत्पादन: एसिटिक एसिड/एसिटिक एनहाइड्राइड रिएक्टर, आसवन कॉलम, और कीटनाशक मध्यवर्ती युक्त क्लोरीन/क्लोरीन के लिए संश्लेषण उपकरण।
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फार्मास्युटिकल और बढ़िया रसायन: बहु-कार्यात्मक उत्पादन उपकरण जिसमें विभिन्न रसायनों के प्रति उच्च शुद्धता और प्रतिरोध की आवश्यकता होती है। सक्रिय पदार्थ तैयार करने और दवा संश्लेषण के लिए सुविधाएं।
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कागज उद्योग: डाइजेस्टर और ब्लीचिंग उपकरण, क्लोरीन और क्लोरीन डाइऑक्साइड आधारित ब्लीचिंग समाधानों से संक्षारण प्रतिरोधी।
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तेल और गैस: H₂S, CO₂, और Cl⁻ युक्त खट्टे गैस क्षेत्रों में पाइपलाइन और प्लेटफ़ॉर्म उपकरण। NACE MR0175 (ISO 15156-3) मानकों का अनुपालन करता है।
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पर्यावरण इंजीनियरिंग: अपशिष्ट भस्मीकरण ग्रिप गैस शोधन उपकरण, अपशिष्ट जल उपचार बाष्पीकरणकर्ता, अपशिष्ट एसिड/अपशिष्ट तरल बाष्पीकरणकर्ता, और प्रतिक्रिया वाहिकाएँ।
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समुद्री इंजीनियरिंग और समुद्री जल अलवणीकरण: समुद्री जल शीतलन पाइपलाइन, हीट एक्सचेंजर्स, पंप, वाल्व और अलवणीकरण संयंत्र, उच्च लवणता और सूक्ष्मजीवों से संक्षारण का विरोध करते हैं।
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नमक और नमक रसायन: बाष्पीकरणकर्ता, क्रिस्टलाइज़र और नमक घोल पंप, उच्च क्लोराइड सांद्रता वाले प्रक्रिया वातावरण के लिए उपयुक्त।
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टाइटेनियम डाइऑक्साइड उत्पादन (क्लोराइड प्रक्रिया): क्लोराइड प्रक्रिया TiO₂ उत्पादन सुविधाओं में महत्वपूर्ण संक्षारण घटक।
वितरण और अनुकूलन
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रूप |
 शीट/प्लेट
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 बार/रॉड
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 सीवनरहित पाइप
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 पट्टी/शीट कुंडल
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 तार/वायर रॉड
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पारंपरिक रेंज |
मोटाई: 0.5 - 100 मिमी |
व्यास Φ6-500मिमी |
बाहरी व्यास Φ10-300 मिमी |
मोटाई: 0.1 - 3.0 मिमी |
व्यास Φ0.5-10 मिमी |
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अनुकूलन क्षमता |
विशेष मोटी/पतली रोलिंग, अल्ट्रा{0}}चौड़ी प्लेटें; विशेष सतह उपचार, निश्चित लंबाई में कटाई |
बड़ी {{0}आकार की जालीदार छड़ें (Φ800 मिमी तक), विशेष {{2}आकार की छड़ें, और विभिन्न ताप उपचार स्थितियाँ |
बड़े -व्यास मोटे{{1}दीवार वाले पाइप, विशेष मिश्र धातु संरचना; पाइप अंत प्रसंस्करण (बेवलिंग, निश्चित लंबाई) |
विभिन्न कठोरता स्थितियाँ, विशेष ऊष्मा उपचार (स्थिरीकरण उपचार, अनाज के आकार का नियंत्रण), एसिड से धुली हुई सतहें, इलेक्ट्रोलाइटिक पॉलिशिंग, कोटिंग्स, या विशेष सुरक्षात्मक फिल्में |
विशेष सतह उपचार, सटीक ड्राइंग |
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प्रश्न: अधिकतम सेवा तापमान क्या है?
प्रश्न: इसमें और हास्टेलॉय सी-276 में क्या अंतर है?
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