उत्पाद सुविधाएँ
एसिड संक्षारण को कम करने के लिए असाधारण प्रतिरोध
उच्च मोलिब्डेनम सामग्री (27-32%) हेस्टेलॉय बी को हाइड्रोक्लोरिक एसिड, तनु सल्फ्यूरिक एसिड और फॉस्फोरिक एसिड जैसे कम करने वाले मीडिया में लगभग पूर्ण संक्षारण प्रतिरोध प्रदान करती है, जो पारंपरिक ऑस्टेनिटिक स्टेनलेस स्टील्स और अधिकांश निकल-आधारित मिश्र धातुओं से कहीं अधिक है।
उत्कृष्ट हाइड्रोक्लोरिक एसिड संक्षारण प्रतिरोध
यह क्वथनांक से नीचे पूर्ण सांद्रता वाले हाइड्रोक्लोरिक एसिड में स्थिर रहता है, जिसमें गड्ढे या अंतरकणीय क्षरण की कोई प्रवृत्ति नहीं होती है। यह गैर-ऑक्सीकारक एसिड जैसे हाइड्रोजन क्लोराइड गैस, फॉर्मिक एसिड और एसिटिक एसिड का भी सामना करता है।
उन्नत तापीय स्थिरता
बी-2 की तुलना में, बी-3 लोहे, क्रोमियम, एल्यूमीनियम और टाइटेनियम जैसे तत्वों के सटीक नियंत्रण के माध्यम से गर्म काम और वेल्डिंग के दौरान हानिकारक इंटरमेटेलिक चरणों (जैसे नीमो) की वर्षा दर को काफी कम कर देता है। इसके परिणामस्वरूप वेल्डेड स्थिति में बेहतर इंटरग्रेनुलर संक्षारण प्रतिरोध होता है और थर्मल इतिहास के प्रति संवेदनशीलता कम हो जाती है।
अच्छा अंतर-दानेदार संक्षारण प्रतिरोध
अत्यंत कम कार्बन सामग्री (0.01% से कम या उसके बराबर) और अनुकूलित मिश्र धातु डिजाइन वेल्ड हीट प्रभावित क्षेत्र में कार्बाइड और हानिकारक चरण अवक्षेपण के जोखिम को काफी कम कर देते हैं। इसका उपयोग अधिकांश संक्षारक वातावरणों में वेल्ड अवस्था में बिना पोस्ट {5} वेल्ड ताप उपचार की आवश्यकता के किया जा सकता है।
सल्फ्यूरिक और फॉस्फोरिक एसिड के लिए मध्यम प्रतिरोध
यह सल्फ्यूरिक और फॉस्फोरिक एसिड में मध्यम सांद्रता या उससे कम पर अच्छा प्रदर्शन करता है, विशेष रूप से क्लोराइड या फ्लोराइड युक्त गैर-ऑक्सीकरण एसिड समाधान में।
अच्छी फॉर्मेबिलिटी और वेल्डेबिलिटी
इसे पारंपरिक गर्म और ठंडे कार्य प्रक्रियाओं द्वारा बनाया जा सकता है और इसमें अच्छी वेल्डेबिलिटी (GTAW, GMAW, SMAW) है। मिलान वाले हेस्टेलॉय बी-3 फिलर तार का उपयोग करने की अनुशंसा की जाती है। ऑक्सीकरण वाले वातावरण (जैसे नाइट्रिक एसिड या ऑक्सीजन युक्त घोल) से बचना चाहिए, क्योंकि वे संक्षारण दर को काफी बढ़ा देते हैं।
तकनीकी निर्देश
रासायनिक संरचना
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तत्व |
मानक आवश्यकताएँ |
टिप्पणियाँ |
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नी |
शेष मात्रा (65% से अधिक या उसके बराबर) |
मैट्रिक्स तत्व जो संक्षारण प्रतिरोध प्रदान करते हैं |
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एमओ |
27.0 – 32.0% |
मुख्य घटक जो एसिड प्रतिरोध प्रदान करते हैं |
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फ़े |
1.5 – 3.0% |
गर्म कार्यशीलता में सुधार करें, लेकिन सख्त नियंत्रण की आवश्यकता है |
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करोड़ |
1.0 – 3.0% |
मध्यम ऑक्सीडेटिव वातावरण में अनुकूलनशीलता बढ़ाने के लिए थोड़ी मात्रा जोड़ें |
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सह |
3.0% से कम या उसके बराबर |
अशुद्धियाँ या अनुमेय योजक |
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C |
0.01% से कम या उसके बराबर |
अल्ट्रा-निम्न कार्बन सामग्री, अंतरकणीय क्षरण को रोकती है |
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सी |
0.10% से कम या उसके बराबर |
इंटरग्रेनुलर संक्षारण प्रवृत्ति को रोकने के लिए डब्ल्यू सिलिकॉन सामग्री |
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अल |
0.50% से कम या उसके बराबर |
तत्वों को डीऑक्सीडाइजिंग और स्थिर करना |
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ती |
0.20% से कम या उसके बराबर |
हानिकारक चरणों की वर्षा को कम करने के लिए तत्वों को स्थिर करना |
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एम.एन. |
3.0% से कम या उसके बराबर |
ऑक्सीजन अवशोषक की एक छोटी मात्रा |
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P |
0.030% से कम या उसके बराबर |
अशुद्धि तत्व |
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S |
0.010% से कम या उसके बराबर |
गर्म भंगुरता को रोकें |
भौतिक गुण
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संपत्ति |
मूल्य पहुंच |
परीक्षण की स्थितियाँ |
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घनत्व |
9.22 ग्राम/सेमी³ |
कमरे का तापमान (20 डिग्री) |
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गलनांक |
1370 - 1418 डिग्री |
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थर्मल विस्तार का गुणांक (20-100 डिग्री) |
13.6 × 10⁻⁶ /K |
- |
यांत्रिक गुण (घोषित स्थिति, विशिष्ट मान)
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संपत्ति |
विशिष्ट मूल्य |
विनिर्देश |
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तन्यता ताकत |
760 एमपीए से अधिक या उसके बराबर |
एएसटीएम बी333/बी622 |
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ताकत (0.2% ऑफसेट) |
350 एमपीए से अधिक या उसके बराबर |
एएसटीएम बी333/बी622 |
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बढ़ाव |
40% से अधिक या उसके बराबर |
एएसटीएम बी333/बी622 |
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कठोरता |
100 एचआरबी से कम या उसके बराबर |
- |
उच्च-तापमान प्रदर्शन
हेस्टेलॉय बी-3 को मुख्य रूप से मध्यम रूप से कम तापमान कम करने वाले संक्षारक वातावरण (450 डिग्री से कम या उसके बराबर पर दीर्घकालिक उपयोग) के लिए डिज़ाइन किया गया है। इसका संक्षारण प्रतिरोध ऑक्सीकरण वातावरण (जैसे ऑक्सीजन युक्त समाधान या नाइट्रिक एसिड) में तेजी से गिरता है और ऑक्सीकरण मीडिया के लिए अनुशंसित नहीं है। हालाँकि, बी-2 की तुलना में, बी-3 में क्रोमियम की मात्रा कम होने के कारण ऑक्सीकरण संबंधी अशुद्धियों का पता लगाने की सहनशीलता में थोड़ा सुधार हुआ है।
पिटिंग प्रतिरोध समतुल्य (PREN): PREN=%Cr + 3.3×%Mo + 16×%N। कम क्रोमियम सामग्री (1-3%) के साथ, PREN मान आम तौर पर 10-20 के बीच होता है, जो इसे क्लोराइड युक्त ऑक्सीकरण वातावरण के लिए अनुपयुक्त बनाता है। इस मिश्र धातु को पिटिंग प्रतिरोध के लिए डिज़ाइन नहीं किया गया है, बल्कि एसिड को कम करने में समान संक्षारण प्रतिरोध पर ध्यान केंद्रित किया गया है।
क्रिटिकल पिटिंग तापमान (सीपीटी): लागू नहीं (ऑक्सीकरण वाले वातावरण वाले क्लोराइड में जंग के लिए प्रतिरोधी नहीं)।
उपयुक्त मीडिया:
हाइड्रोक्लोरिक एसिड (सभी सांद्रता, क्वथनांक से नीचे)
तनु सल्फ्यूरिक एसिड (60% सांद्रता से कम या उसके बराबर)
फॉस्फोरिक एसिड (गैर -ऑक्सीकरण की स्थिति)
कार्बनिक अम्ल जैसे फॉर्मिक एसिड, एसिटिक एसिड और प्रोपियोनिक एसिड
हाइड्रोजन क्लोराइड गैस (शुष्क या कम करने वाली स्थितियाँ)
एसिटिक एसिड संश्लेषण, कीटनाशक संश्लेषण आदि के लिए रासायनिक मीडिया।
नोट: नाइट्रिक एसिड, आयरन/कॉपर आयन युक्त हाइड्रोक्लोरिक एसिड और ऑक्सीजन युक्त घोल जैसे अत्यधिक ऑक्सीकरण वाले मीडिया में उपयोग के लिए निषिद्ध है।
हेस्टेलॉय बी-3 को विशेष रूप से मध्यम कम तापमान वाले एसिड वाले संक्षारक वातावरण के लिए डिज़ाइन किया गया है। इसे निम्नलिखित क्षेत्रों में उपयोग के लिए अनुशंसित किया गया है:
अनुप्रयोग फ़ील्ड
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हाइड्रोक्लोरिक एसिड हैंडलिंग उपकरण: भंडारण टैंक, हीट एक्सचेंजर्स, टावर, पंप, वाल्व और पाइपिंग।
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एसिटिक एसिड/संश्लेषण: रिएक्टर, आसवन कॉलम, रीबॉयलर।
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कीटनाशक उत्पादन: क्लोरीनयुक्त/फ्लोरीनयुक्त कीटनाशक मध्यवर्ती के लिए संश्लेषण उपकरण।
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फॉस्फोरिक एसिड सांद्रण: गैर-ऑक्सीकारक फॉस्फोरिक एसिड बाष्पीकरणकर्ता और हीटर।
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फॉर्मिक एसिड/प्रोपियोनिक एसिड पौधे: कार्बनिक एसिड के लिए संक्षारण प्रतिरोधी घटक।
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क्लोर-क्षार उद्योग: हाइड्रोजन क्लोराइड गैस कूलर, सुखाने वाले टावर।
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उत्तम रसायन: अम्लीय वातावरण को कम करने में काम करने वाले रिएक्टर और आंदोलनकारी।
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फार्मास्युटिकल उद्योग: कुछ अम्लीय दवा मध्यवर्ती का संश्लेषण।
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ग्रिप गैस डीसल्फराइजेशन (एफजीडी): केवल गैर-{0}}ऑक्सीकरण स्थितियों के तहत अवशोषक क्षेत्रों तक सीमित।
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धातु एसिड अचार बनाना: हाइड्रोक्लोरिक एसिड अचार बनाने के टैंक और संबंधित उपकरण।
वितरण और अनुकूलन
हम यह सुनिश्चित करने के लिए लचीली और विश्वसनीय आपूर्ति श्रृंखला समाधान प्रदान करते हैं कि आपको हास्टेलॉय बी-3 सामग्रियां प्राप्त हों जो आपकी परियोजना आवश्यकताओं से पूरी तरह मेल खाती हों।
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रूप |
 शीट/प्लेट
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 बार/रॉड
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 सीवनरहित पाइप
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 पट्टी/शीट कुंडल
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 तार/वायर रॉड
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पारंपरिक रेंज |
मोटाई: 0.5 - 100 मिमी |
व्यास Φ6-500मिमी |
बाहरी व्यास Φ10-300 मिमी |
मोटाई: 0.1 - 3.0 मिमी |
व्यास Φ0.5-10 मिमी |
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अनुकूलन क्षमता |
विशेष मोटी/पतली रोलिंग, अल्ट्रा{0}}चौड़ी प्लेटें; विशेष सतह उपचार, निश्चित लंबाई में कटाई |
बड़ी {{0}आकार की जालीदार छड़ें (Φ800 मिमी तक), विशेष {{2}आकार की छड़ें, और विभिन्न ताप उपचार स्थितियाँ |
बड़े -व्यास मोटे{{1}दीवार वाले पाइप, विशेष मिश्रधातु संरचना; पाइप अंत प्रसंस्करण (बेवेलिंग, निश्चित लंबाई) |
विभिन्न कठोरता स्थितियाँ, विशेष ताप उपचार (स्थिरीकरण उपचार, अनाज के आकार का नियंत्रण), एसिड से धुली हुई सतहें, इलेक्ट्रोलाइटिक पॉलिशिंग, कोटिंग्स या विशेष सुरक्षात्मक फिल्में |
विशेष सतह उपचार, सटीक ड्राइंग |
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अक्सर पूछे जाने वाले प्रश्न
प्रश्न: हास्टेलॉय बी-3 के मुख्य लाभ क्या हैं?
प्रश्न: हास्टेलॉय बी-3 के लिए किस ताप उपचार की आवश्यकता है?
प्रश्न: अधिकतम सेवा तापमान क्या है?
प्रश्न: इसमें और हास्टेलॉय बी-2 में क्या अंतर है?
लोकप्रिय टैग: हेस्टेलॉय बी - 3, चीन हेस्टेलॉय बी - 3 निर्माता, आपूर्तिकर्ता, कारखाने
